Niedertemperatur PVD-Verfahren

Kurzbeschreibung des Projektes:

Durch Abscheidung dünner Schichten bzw. Modifizierung der Oberflächenzonen der Rapid-Manufacturing (RM)-Werkstoffe werden Verbundsysteme mit neuen Eigenschaften erzeugt, die sich deutlich sowohl von den Schichteigenschaften als auch den Eigenschaften der RM-Materialien unterscheiden. Durch gepulste Prozeßführung einer Kombination von verschiedenen PVD-Plasmaverfahren ist eine effiziente Plasmabehandlung (Ionenimplantation) und Beschichtung (Ionenplattieren) auch von thermisch sensiblen Materialien, wie RM-Materialien (Polymere, Feinguß), möglich. Die aufgrund von Besonderheiten der lasererzeugten Oberflächen verminderte Schichthaftung wird durch Einsatz spezifischer Plasmatechnik und –technologien verbessert. Durch Einsatz dieses Verfahrens wird eine neue Generation leistungsfähiger RM-Werkzeuge, -Modelle und –Bauteile entwickelt.

Beschichteter Prototyp einer Spritzgußform, hergestellt mittels Hochgeschwindigkeitsbearbeitung

Titanbeschichtetes Stereolithographiemodell

Ansprechpartner: Dr. rer. nat. Andreas Panckow

• Gesamtes Forschungs- und Entwicklungsspektrum am Beschichtungszentrum